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干貨分享 | 半導(dǎo)體制程氣體分析的六大挑戰(zhàn)

干貨分享 | 半導(dǎo)體制程氣體分析的六大挑戰(zhàn)

原創(chuàng)
2025-06-12 17:00:00
技術(shù)文章
作者: SGS_SEMI
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半導(dǎo)體制造過(guò)程中使用的氣體種類繁多,這些氣體大致上可區(qū)分為大宗氣體與特殊氣體。從制程功能的角度來(lái)看,氣體的分類更為細(xì)致,包括反應(yīng)用氣體、清洗用氣體、燃燒用氣體、載氣等。

在半導(dǎo)體制造的微觀世界里,制程氣體扮演著至關(guān)重要的角色,它直接影響工藝精度、產(chǎn)品良率以及生產(chǎn)安全。然而,這些氣體的分析與監(jiān)測(cè)卻面臨著諸多挑戰(zhàn)。

■ 挑戰(zhàn)1:超高純度與痕量雜質(zhì)檢測(cè)
半導(dǎo)體制造對(duì)制程氣體的純度要求極高,像氬氣、氮?dú)?、硅烷等氣體,其純度需達(dá)到 ppb(十億分之一)甚至 ppt(萬(wàn)億分之一)級(jí)別。因?yàn)槟呐率且欢↑c(diǎn)的微量雜質(zhì),如水分、氧氣、顆粒物等,都可能導(dǎo)致晶圓缺陷。

傳統(tǒng)檢測(cè)技術(shù)(如氣相色譜、質(zhì)譜),在靈敏度與抗干擾能力方面存在不足。高分辨率質(zhì)譜(HRMS)和激光光譜技術(shù)(如 TDLAS)應(yīng)運(yùn)而生,但這類設(shè)備不僅成本高昂,維護(hù)難度也極大。

■ 挑戰(zhàn)2:復(fù)雜混合氣體的實(shí)時(shí)分析
半導(dǎo)體工藝中,常常會(huì)用到多組分的混合氣體(如 C4F8/O2/Ar 蝕刻氣體)。分析時(shí)需同時(shí)監(jiān)測(cè)主成分、副產(chǎn)物(如 CFx、聚合物)及殘留物,但不同氣體的光譜或質(zhì)譜信號(hào)可能重疊(如N?與CO的質(zhì)荷比相近),導(dǎo)致檢測(cè)結(jié)果混淆。

更具挑戰(zhàn)性的是,快速工藝(如原子層沉積ALD)要求分析系統(tǒng)具備毫秒級(jí)響應(yīng)能力,而傳統(tǒng)采樣方法因延遲問(wèn)題難以滿足。

■ 挑戰(zhàn)3:極端環(huán)境下的分析可靠性
半導(dǎo)體制造環(huán)境可能涉及高溫(>500℃)、高壓、等離子體或腐蝕性氣體(如Cl?、HF)。這些極端條件對(duì)傳感器材料構(gòu)成了嚴(yán)峻挑戰(zhàn),容易導(dǎo)致傳感器腐蝕或熱漂移,從而影響分析結(jié)果的準(zhǔn)確性(如金屬氧化物半導(dǎo)體傳感器在HF環(huán)境中可能會(huì)失效,而等離子體則會(huì)干擾光學(xué)檢測(cè)信號(hào))。


■ 挑戰(zhàn)4:毒性/易燃?xì)怏w安全監(jiān)測(cè)
硅烷(自燃)、砷烷(劇毒)、六氟化鎢(強(qiáng)腐蝕)等氣體一旦泄漏,可能引發(fā)嚴(yán)重的安全事故。因此,需要在極低濃度(ppm級(jí))下快速檢測(cè)這些氣體,同時(shí)避免因環(huán)境干擾導(dǎo)致的誤報(bào)。


■ 挑戰(zhàn)5:數(shù)據(jù)分析與系統(tǒng)整合
制程氣體分析產(chǎn)生的海量數(shù)據(jù)需要實(shí)時(shí)處理,并與制程設(shè)備(如MES系統(tǒng))進(jìn)行聯(lián)動(dòng)。此外,多源數(shù)據(jù)(如氣體濃度、流量、溫度)的同步與關(guān)聯(lián)分析也是一大挑戰(zhàn)。


■ 挑戰(zhàn)6:新興工藝帶來(lái)的新需求
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,先進(jìn)制程(如3nm以下)、第三代半導(dǎo)體(GaN、SiC)及EUV光刻技術(shù)等新興工藝對(duì)氣體提出了更高的要求。例如,EUV光刻需要控制H?中的CO雜質(zhì),以防止鏡面污染;SiC外延生長(zhǎng)需要精確調(diào)控SiH?/C?H?比例,傳統(tǒng)熱導(dǎo)檢測(cè)器(TCD)因動(dòng)態(tài)范圍限制難以勝任。


在半導(dǎo)體制程中,氣體分析的關(guān)注點(diǎn)不僅涵蓋一般氣體標(biāo)準(zhǔn)中的純度項(xiàng)目,更多雜質(zhì)項(xiàng)目(包括金屬、離子、顆粒等)同樣是關(guān)鍵監(jiān)測(cè)對(duì)象。由于不同氣體特性差異顯著,分析時(shí)需針對(duì)其特性,采用專用或特殊設(shè)計(jì)的實(shí)驗(yàn)室分析儀器或線上分析儀器。

半導(dǎo)體制程氣體分析

SGS半導(dǎo)體超痕量分析實(shí)驗(yàn)室

此外,實(shí)驗(yàn)室的安全設(shè)施與尾氣處理系統(tǒng)也是必需考量要素,需確保在氣體分析過(guò)程中有效控制安全風(fēng)險(xiǎn)及環(huán)境影響。而在特殊氣體的取樣(采樣)環(huán)節(jié),其技術(shù)要求與安全防護(hù)的重要性甚至高于分析環(huán)節(jié)本身。

圖一


SGS已在臺(tái)灣與愛(ài)爾蘭建立了完善的半導(dǎo)體氣體分析能力,檢測(cè)范圍覆蓋純度、雜質(zhì)、水分、氧氣、顆粒、金屬、離子等多項(xiàng)指標(biāo);SGS位于上海的半導(dǎo)體超痕量分析實(shí)驗(yàn)室目前已具備部分檢測(cè)能力,并正積極拓展更齊全的分析服務(wù),以滿足半導(dǎo)體行業(yè)日益嚴(yán)苛的氣體檢測(cè)需求。

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