在半導體制程中，光刻工藝是核心環(huán)節(jié)，而光刻膠與光刻機則是光刻工藝中的兩大技術(shù)門檻。盡管國內(nèi)設備廠商正在努力研發(fā)，但目前大部分光刻機技術(shù)仍依賴于國外品牌。光刻機在市場上非常搶手，但即便擁有光刻機，也不能隨意在FAB（晶圓廠）中擺放。

光刻機為什么不能隨意擺放？
光刻機的精密操作對環(huán)境潔凈度有著近乎苛刻的要求。光刻機在進行光刻工藝時，對環(huán)境中的分子污染物（AMC）極其敏感。即使是微小的雜質(zhì)，也可能對光刻過程造成嚴重影響。
以荷蘭某大廠的光刻機為例，就明確要求安裝光刻機的廠商在其環(huán)境與使用的壓縮氣體中不能含有酸性物質(zhì)、堿性物質(zhì)、氨氣、硫化物、沉降型有機物質(zhì)與非沉降型有機物質(zhì)等雜質(zhì)。
在SEMI F21無塵室環(huán)境分子污染物分級標準中，也明確規(guī)定了酸性物質(zhì)、堿性物質(zhì)、沉降型有機物質(zhì)、參雜性物質(zhì)與金屬顆粒等雜質(zhì)的控制要求。同時，ISO14644潔凈室和相關受控環(huán)境潔凈室標準中的第8部分，更是用化學濃度（ACC）來評估空氣清潔度，從而規(guī)范了潔凈室中這些氣態(tài)雜質(zhì)對制程的影響性。

隨著半導體晶圓越來越微小化和平面顯示器尺寸巨大化，制程產(chǎn)品正面臨微量污染物的嚴重威脅。因此，對于無塵室生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度要求也越來越嚴格和重要。雖然目前AMC（空氣分子污染物）的污染濃度并未與潔凈室等級形成直接關系，但其對制程的影響卻是不容忽視的。

如何進行潔凈室AMC測試？
在潔凈室AMC（空氣污染物控制）測試中，通常使用空氣采樣器和氣相色譜質(zhì)譜儀等儀器進行分析和測量。常見的潔凈室AMC污染物包括有機化合物、氣體污染物（如氮氧化物、硫化物）和有害氣體（如臭氧）。測試結(jié)果可以與行業(yè)標準和規(guī)范進行比較，以確定是否符合要求。因此，潔凈室AMC測試是潔凈室管理中的重要一環(huán)，有助于確保潔凈室環(huán)境的全面控制和達到所需的潔凈度水平。

AMC的種類有哪些？

如何解決潔凈室空氣質(zhì)量問題？

SGS提供多種潔凈室AMC檢測服務模式：

• 委托SGS樣品采集分析：客戶沒有現(xiàn)場采樣設備及采樣經(jīng)驗，可以委托SGS到現(xiàn)場進行采樣與分析，避免采樣過程中的失誤和污染。
• 自行樣品采集后委托SGS分析：SGS協(xié)助客戶建立采樣能力，優(yōu)化時間和成本。
• 樣品采集打包方案：SGS提供采樣設備租借、采樣教育訓練課程和采樣能力建置打包方案，以滿足不同客戶的需求。

SGS潔凈室AMC檢測服務項目：

• MA、MB酸性與堿性空降分子污染采樣與分析
• MC可沉降物質(zhì)及有機氣體分子采樣與分析
• MD參雜性空降分子污染采樣與分析
• MM金屬空降分子污染采樣與分析
• 硫化物分子污染采樣與分析
• 高效濾網(wǎng)及化學濾網(wǎng)過濾效率分析
• AMC污染解決方案