在先進制程遭遇微縮瓶頸的背景下，先進封裝朝著 3D 異質(zhì)整合方向發(fā)展，成為延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵路徑。3D 先進封裝技術(shù)作為未來的發(fā)展趨勢，使芯片串聯(lián)數(shù)量大幅增加。

隨著異質(zhì)整合需求的不斷提升，前段晶圓制造中的蝕刻、曝光與薄膜沉積等制程及設(shè)備也逐漸應(yīng)用于先進封裝（Advanced Packaging）領(lǐng)域。先進封裝技術(shù)在半導體制造中占據(jù)著日益重要的地位，尤其在提高集成度、縮小晶片尺寸方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用。然而，隨著封裝技術(shù)的持續(xù)進步，微污染問題成為了一個不可小覷的挑戰(zhàn)。

先進封裝過程中微污染挑戰(zhàn)的主要體現(xiàn)在以下幾個方面：

1. 污染源的多樣性
在先進封裝過程中，污染源廣泛存在，涵蓋環(huán)境、制程材料、設(shè)備以及操作人員等多個方面。這些微小污染物（如金屬顆粒、化學殘留物、灰塵等）極有可能對半導體晶片的功能造成嚴重損害，甚至會致使晶片失效。

2. 小尺寸與高精度的雙重要求
隨著半導體集成度的不斷提高，元件尺寸持續(xù)縮小，這對封裝過程的精度提出了更為嚴苛的要求。微污染物的存在，可能會直接影響微小尺寸元件的連接質(zhì)量和導電性，進而對整體性能產(chǎn)生不良影響。

3. 污染容忍度極低
在先進封裝，特別是 3D 封裝和芯片堆疊技術(shù)中，微污染物在極為狹窄的空間內(nèi)會產(chǎn)生顯著影響。這就對污染物的檢測和控制水平提出了極高的要求。

4. 清潔與防范措施亟待加強
為有效應(yīng)對微污染問題，先進封裝技術(shù)在制程中需要采用更高效的清潔技術(shù)，同時對生產(chǎn)環(huán)境進行嚴格管控。例如，運用潔凈室技術(shù)、過濾系統(tǒng)以及靜電防護等手段，防止污染物的侵入。

5. 質(zhì)量控制與檢測技術(shù)至關(guān)重要
開發(fā)高精度的檢測技術(shù)，如高解析度顯微鏡、X 射線檢測等，以此識別和監(jiān)控微污染物，是確保先進封裝質(zhì)量的關(guān)鍵所在。

隨著封裝技術(shù)的不斷進步，微污染帶來的挑戰(zhàn)愈發(fā)嚴峻。SGS半導體超痕量實驗室，能夠滿足封裝行業(yè)在制程管理和環(huán)境控制方面對極高標準測試服務(wù)的需求。

■ 進料品質(zhì)控制

• 硅/二氧化硅/碳化硅 純度與雜質(zhì)分析
• 硅片盒 清潔度分析
• 制程化學品與制程氣體 品質(zhì)分析
• 光罩/光罩盒 潔凈度分析
• 潔凈室消耗品與包裝材料 清潔度分析
• 氟塑材料污染溶出測試 - SEMI F57

■ 廠區(qū)環(huán)境品質(zhì)控制

• 潔凈室新風系統(tǒng)潔凈度 ISO 14644
• 潔凈室空降分子污染AMC - SEMI F21
• 超純水系統(tǒng)品質(zhì)
• 壓縮干燥空氣品質(zhì) CDA 品質(zhì) - ISO 8573
• 自動化設(shè)備潔凈室適用性評估 - ISO 14644-14